專業提供抗靜電陶瓷晶圓搬運手臂、半導體製程陶瓷零組件

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Etching蝕刻

Etching蝕刻

主流的乾蝕刻電漿蝕刻〈ICP,將蝕刻氣體解離以電漿方式存在,施加電場且裝設線圈增加額外的電場(更多電漿)解離的氣體離子往晶片表面移動,對晶片上的薄膜進行化學反應。

Kingcera先進的陶瓷元件可以承受乾蝕刻室的極端環境,尤其適合應用在業界主流ICP高密度電漿蝕刻機。

 

主要供應:Focus rings

Nozzles

Shields

Showerheads

Other custom components

可選用的材料:絕緣Al2O3、抗靜電Al2O3SIC,氮化鋁、氧化鋯、及依特性開發所需的陶瓷複合材料,及其他非陶瓷材料。

 

1finger.jpgFocus Ring.jpgFocus Ring2.jpg
Focus Ring3.jpgICP Etching Tray.jpgNAZZLE.jpgplaten top shield.png
ring (2).jpgring 2.jpgring.jpg


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